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| 溶液中阴离子对UV/H2O2降解4-硝基酚的影响 |
| 张文兵;肖贤明;傅家谟;盛国英;崔明超 |
| 中国科学院广州地球化学研究所,有机地球化学国家重点实验室 广东广州510640 |
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摘要 利用间歇式光反应器,研究了溶液中阴离子HCO3-、Cl-、及NO3-对UV/H2O2氧化4-硝基酚的影响.结果表明,UV/H2O2能有效地除去水溶液中4-硝基酚及TOC.随着HCO3-、Cl-及NO3-浓度的增加,4-硝基酚氧化速率减少.溶液中阴离子对UV/H2O2体系中主要氧化剂OH自由基的清除作用是4-硝基酚降解速率下降的原因.利用一级反应动力学对4-硝基酚的降解进行了拟合,得到了满意的结果.
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| 关键词 ：
UV/H2O2技术,
4-硝基酚,
阴离子,
高级氧化
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收稿日期: 1900-01-01
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